下列反应离子方程式正确的是A．FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe3+ +Cu ＝ Fe2+ + Cu2+B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na2SiO3＋2H＋

题型：不详难度：来源：

下列反应离子方程式正确的是

A．FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板：Fe3+ +Cu ＝ Fe2+ + Cu2+

B．硅酸钠溶液和稀硫酸混合：Na2SiO3＋2H＋ ＝ H2SiO3↓＋2Na+

C．Ba(OH)2溶液与稀硫酸反应：Ba2++OH－+H++SO42－＝BaSO4↓+H2O

D．向氯化铝溶液中滴加过量氨水：Al3＋＋3NH3·H2O＝Al(OH)3↓＋3NH4＋

答案

D

解析

试题分析：A、电子得失不守恒，应该是2Fe³⁺ +Cu ＝ 2Fe²⁺ + Cu²⁺，A不正确；B、硅酸钠是应该用离子符号表示，正确的是SiO₃^2—＋2H^＋ ＝H₂SiO₃↓，B不正确；C、不符合定比组分比，应该是Ba²⁺+2OH^－+2H⁺+SO₄^2－＝BaSO₄↓+2H₂O，C不正确；D、氨水是弱碱，不能溶解氢氧化铝，D正确，答案选D。