在半导体工业中有这样一句话:“从沙滩到用户”,其中由粗硅制纯硅的常用方法为:Si(粗)+2Cl2=SiCl4 SiCl4+2H2=Si(纯)+4HCl。若在
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在半导体工业中有这样一句话:“从沙滩到用户”,其中由粗硅制纯硅的常用方法为:Si(粗)+2Cl2=SiCl4 SiCl4+2H2=Si(纯)+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L(注:25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol)则: (1)反应生成HCl气体的质量为__________,转移电子的个数为_____________。 (2)反应生成的HCl气体溶于127mL水中,得到密度为1.20g/mL的盐酸,此盐酸的物质的量浓度为 。 (3)“从沙滩到用户”涉及到多个反应,其中制取粗硅的反应方程式为 ,纯净的石英砂与烧碱反应可以制得水玻璃,反应的离子方程式为 。 (4)普通玻璃若以氧化物形式表示其组成为(质量分数):Na2O 13%,CaO 11.7%,SiO2 75.3%。现以石灰石、纯碱和石英为原料生产这种玻璃10t,石灰石的利用率为80%,纯碱和石英的利用率为95%,至少需要上述原料的质量是 t(保留两位小数)。 |
答案
(1)73g 4NA (2)12mol/L (3)SiO2+2CSi(粗)+2CO↑ SiO2+2OH-=SiO32-+H2O (4)12.65 |
解析
试题分析:(1)25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol,49L HCl气体的物质的量为2mol,其质量为2mol×36.5g/mol=73g,两个反应共转移电子个数为4NA。 (2)溶质质量为73g,水的质量为127g,所以溶液体积为200g/1.20g/mL=1/6L,则盐酸的物质的量浓度是2mol/1/6L=12mol/L。 (3)制取粗硅是用碳还原二氧化硅,其方程式为SiO2+2CSi(粗)+2CO↑,石英的主要成分是SiO2,与烧碱反应制取水玻璃,反应的离子方程式为SiO2+2OH-=SiO32-+H2O。 (4)10t这种玻璃中含Na2O1.3t,CaO1.17t,SiO27.53t,由CaCO3~CaO可计算出所需CaCO3的质量,同理可算出纯碱、石英的质量,约为12.65t。 |
举一反三
高岭土中[Al2(Si2O5)(OH)4]中SiO2的质量分数为A.46.5% | B.23.3% | C.21.7% | D.35.7% |
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绝大多数原子核是由质子和中子构成的,如果质子或中子为某些特定数值,原子核就异常稳定,科学家将这些数值称为“幻数”,科学家在人造硅同位素1442Si中发现新的物理学“幻数”,下列有关说法正确的是( )A.1442Si原子核内含有42个中子 | B.硅用于制造光导纤维 | C.二氧化硅用于半导体材料 | D.SiO2可以与弱酸HF反应 |
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石棉是硅酸盐矿物,某种石棉的化学式表示为:,该化学式中x, y的值分别是( ) |
一定条件下,有如下反应: 2CO (g) + O2(g)=2CO2(g) ΔH1=" -" 566.0kJ·mol-1 3Fe(s) +2O2(g)=Fe3O4 (s) ΔH2=-1118.3kJ·mol-1 Fe3O4(s)+4CO(g)3Fe(s) +4CO2 (g) ΔH3 (1)试计算,ΔH3 = (2)已知1100℃时,反应Fe3O4(s)+4CO(g) 3Fe(s)+4CO2 (g) ΔH3的化学平衡常数为4.8×10-3。若在1100℃时,测得高炉中c(CO2)=0.020mol·L-1,c(CO)=0.10mol·L-1,此时该反应 (填“是”或“否”)处于平衡状态,理由是 ,此时υ正 υ逆(填“>”、“<”或“=”)。 (3)下列试剂可以用于吸收工业尾气中的CO2的是 。 a.(NH4)2CO3溶液 b.氨水 c.NaHSO3溶液 d.CaCl2溶液 |
以色列科学家Danici Shcchtman因发现准晶体获得2011年诺贝尔化学奖。人们在自然界中也找到了组成为Al63Cu24Fe13的天然准晶体。将相同质量的此准晶体分别与足量的盐酸、烧碱和稀硝酸反应,产生气体的物质的量关系为A.n(烧碱)<n(稀硝酸)<n(盐酸) | B.n(烧碱)<n(盐酸)<n(稀硝酸) | C.n(稀硝酸)<n(烧碱)<n(盐酸) | D.n(盐酸)<n(稀硝酸)<n(烧碱) |
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