把过量的CO2通入下列溶液中,最终不会产生沉淀的是A.Na2SiO3B.CaCl2C.NaAlO2D.饱和Na2CO3
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把过量的CO2通入下列溶液中,最终不会产生沉淀的是A.Na2SiO3 | B.CaCl2 | C.NaAlO2 | D.饱和Na2CO3 |
|
答案
B |
解析
试题分析:A、硅酸钠可以和碳酸反应生成碳酸钠和硅酸,硅酸是白色不溶于水的沉淀;B.盐酸是强酸,碳酸是弱酸,所以碳酸不能制取盐酸,即二氧化碳和氯化钙不反应,最终没有沉淀析出;C、碳酸酸性大于氢氧化铝,将二氧化碳通到偏铝酸钠的溶液中,会产生氢氧化铝白色沉淀; D、碳酸钠与二氧化碳和水反应生成溶解度较小的NaHCO3而析出。 |
举一反三
下表实验中“操作及现象”与“给定溶液”的性质不对应的是
选项
| 溶液
| 操作及现象
| A
| Ca(OH)2溶液
| 通入CO2,溶液变浑浊。继续通CO2至过量,浑浊消失。再加入足量NaOH溶液,又变浑浊。
| B
| 溶液
| 通入CO2,溶液变浑浊。继续通CO2至过量,浑浊消失。
| C
| Ca(ClO)2溶液
| 通入CO2,溶液没有明显变化。再滴入品红溶液,红色褪去。
| D
| CaCl2溶液
| 通入CO2,溶液没有明显变化。若同时通入CO2和NH3,则溶液变浑浊。
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。
相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:
物质
| SiCl4
| BCl3
| AlCl3
| FeCl3
| PCl5
| 沸点/℃
| 57.7
| 12.8
| —
| 315
| —
| 熔点/℃
| -70.0
| -107.2
| —
| —
| —
| 升华温度/℃
| —
| —
| 180
| 300
| 162
| 请回答下列问题: (1)仪器e的名称为____________,装置A中f管的作用是_______________________________________,其中发生反应的离子方程式为_____ ____________________________________ _______。 (2)装置B中的试剂是____________。 (3)某学习小组设计了以下两种实验方案:方案甲:g接装置Ⅰ;方案乙:g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处,请你评价后填写下表。 (4)在上述(3)的评价基础上,请设计一个合理方案:___________ ________ 。 (5)通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。 |
清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一,硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐,金属、Si、SiO2粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的HF溶液,室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面,增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反应25~35 min,效果良好。 回答下列问题 (1)能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液,为什么?用化学方程式加以解释 ; (2)写出晶片制绒反应的离子方程式 ,对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型,他指出Si与NaOH溶液的反应,首先是Si与OH一反应,生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为 。 (3)本校化学兴趣小组同学,为验证Seidel的理论是否正确,完成以下实验:
| 实验事实
| 事实一
| 水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。
| 事实二
| 盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。
| 事实三
| 普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。
| 事实四
| 在野外环境里,用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH,点着后焖烧,可剧烈放出H2。
| 事实五
| 1g(0.036mo1)Si和20mL含有lgNaOH(0.025mol)的溶液,小心加热(稍微预热),收集到约1700mL H2,很接近理论值(1600mL)。
| 结论:从实验上说明碱性水溶液条件下,H2O可作 剂;NaOH作 剂,降低反应 。高温无水环境下,NaOH作 剂。 (4)在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)与氨气(NH3)在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体,常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是 。 A.在使用硅烷时要注意隔离空气和水,SiH4能与水发生氧化还原反应生成H2; B.硅烷与氨气反应的化学方程式为:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反应中NH3作氧化剂; C.它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能,化学稳定性很好,不与任何酸、碱反应; D.氮化硅晶体中只存在共价键,Si3N4是优良的新型无机非金属材料。 |
硅被誉为无机非金属材料的主角。下列物品用到硅单质的是A.陶瓷餐具 | B.石英钟表 | C.计算机芯片 | D.光导纤维 |
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单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计,到2014年一个电脑芯片上将会集成100亿个晶体管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为 : ①SiO2 + 2CSi + 2CO ②Si + 2Cl2SiCl4 ③SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl 其中,反应①和③属于A.化合反应 | B.分解反应 | C.置换反应 | D.复分解反应o |
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