工业上利用二氧化硅来制取高纯度的硅（硅含量达99.9%以上），反应过程中不需要用到的反应物是 ( )A．CB．H2C．COD．Cl2

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工业上利用二氧化硅来制取高纯度的硅（硅含量达99.9%以上），反应过程中不需要用到的反应物是 ( )

A．C

B．H₂

C．CO

D．Cl₂

答案

解析

工业上分三步制取纯硅：
SiO₂ + 2C

Si + 2CO↑
Si + 2Cl₂

SiCl₄
SiCl₄ + 2H₂

4HCl + Si
故反应过程中并不需要CO，选C

举一反三

下列关于硅单质及其化合物的说法正确的是
①硅是构成一些岩石和矿物的基本元素，在自然界中只以化合态的形式存在
②陶瓷、水泥、玻璃、水晶饰物都是硅酸盐制品
③硅的最高价氧化物不与任何酸反应
④二氧化硅是高熔点、硬度大的原子晶体，广泛用作光导纤维
⑤硅的气态氢化物比甲烷不稳定

A．①②⑤

B．②③④

C．①④⑤

D．③④⑤

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将过量CO₂通入NaOH和Ca(OH)₂的混合稀溶液中，生成沉淀的质量（m）和通入CO₂（V）关系图，正确的是

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（12分）回收再利用锗产品加工废料，是生产GeO₂的重要途径，其流程如下图。

（1）Ge²⁺与氧化剂H₂O₂反应生成Ge⁴⁺，写出该反应的离子方程式：
                       ▲              。
（2）蒸馏可获得沸点较低的GeCl₄，在此过程中加入浓盐酸的原因是：
                      ▲              。
（3）GeCl₄水解生成GeO₂·nH₂O，此过程用化学方程式可表示为：           ▲        。温度对GeCl₄的水解率产生的影响如右图所示。为控制最佳的反应温度，实验时可采取的措施为    ▲    。（填字母）

A．用冰水混合物     B．49℃水浴          C．用冰盐水
（4）根据下表1 中不同pH下二氧化锗的溶解率，结合Ge在元素周期表中的位置及“对角线”法则，分析GeO₂溶解率随pH 变化的原因          ▲          ，用离子方程式表示pH>8时GeO₂溶解率增大可能发生的反应                ▲                  。
表1  不同pH下二氧化锗的溶解率

pH	4	5	6	7	8	9
溶解率/%	47.60	32.53	11.19	5.27	1.96	8.85

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下列有关硅及其化合物的叙述中，不正确的是（）

A．工业制玻璃和高炉练铁时都发生的反应：SiO₂+Na₂CO₃

Na₂SiO₃+CO₂↑

B．硅的化学性质不活泼，常温下不易与氧气、氯气、硫酸等反应

C．硅在地壳中的含量仅次于氧，是应用广泛的半导体材料

D．光导纤维的主要成分是二氧化硅

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雕花玻璃总让人赏心悦目。下列物质中能对玻璃进行刻蚀而成花的是( )

A．硅酸

B．烧碱

C．氢氟酸

D．明矾

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