工业上利用二氧化硅来制取高纯度的硅(硅含量达99.9%以上),反应过程中不需要用到的反应物是 (    )A.CB.H2C.COD.Cl2

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工业上利用二氧化硅来制取高纯度的硅(硅含量达99.9%以上),反应过程中不需要用到的反应物是 (    )
A.CB.H2C.COD.Cl2

答案
C
解析
工业上分三步制取纯硅:
SiO2 + 2C Si + 2CO↑
Si + 2Cl2SiCl4
SiCl4 + 2H24HCl + Si
故反应过程中并不需要CO,选C
举一反三
下列关于硅单质及其化合物的说法正确的是
①硅是构成一些岩石和矿物的基本元素, 在自然界中只以化合态的形式存在
②陶瓷、水泥、玻璃、水晶饰物都是硅酸盐制品
③硅的最高价氧化物不与任何酸反应
④二氧化硅是高熔点、硬度大的原子晶体,广泛用作光导纤维
⑤硅的气态氢化物比甲烷不稳定
A.①②⑤B.②③④C.①④⑤D.③④⑤

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将过量CO2通入NaOH和Ca(OH)2的混合稀溶液中,生成沉淀的质量(m)和通入CO2(V)关系图,正确的是
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(12分)回收再利用锗产品加工废料,是生产GeO2的重要途径,其流程如下图。

(1)Ge2+与氧化剂H2O2反应生成Ge4+,写出该反应的离子方程式:                   
                       ▲              
(2)蒸馏可获得沸点较低的GeCl4,在此过程中加入浓盐酸的原因是:                  
                      ▲              
(3)GeCl4水解生成GeO2·nH2O,此过程用化学方程式可表示为:           ▲        。温度对GeCl4的水解率产生的影响如右图所示。为控制最佳的反应温度,实验时可采取的措施为    ▲    。(填字母)

A.用冰水混合物     B.49℃水浴          C.用冰盐水
(4)根据下表1 中不同pH下二氧化锗的溶解率,结合Ge在元素周期表中的位置及“对角线”法则,分析GeO2溶解率随pH 变化的原因          ▲          ,用离子方程式表示pH>8时GeO2溶解率增大可能发生的反应                ▲                  
表1  不同pH下二氧化锗的溶解率
pH
4
5
6
7
8
9
溶解率/%
47.60
32.53
11.19
5.27
1.96
8.85

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下列有关硅及其化合物的叙述中,不正确的是                       (  )
A.工业制玻璃和高炉练铁时都发生的反应:SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2
B.硅的化学性质不活泼,常温下不易与氧气、氯气、硫酸等反应
C.硅在地壳中的含量仅次于氧,是应用广泛的半导体材料
D.光导纤维的主要成分是二氧化硅

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雕花玻璃总让人赏心悦目。下列物质中能对玻璃进行刻蚀而成花的是(     )
A.硅酸B.烧碱C.氢氟酸D.明矾

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