二氧化硅的红外光谱和XRD谱图的解析

题目

二氧化硅的红外光谱和XRD谱图的解析
二氧化硅的红外谱图峰分析
测试二氧化硅样品后在以下位置有峰,求高手解析.
波数 ： 3441.90（OH） 1629.68(HOH) 1103.05(SiO) 970.27(?) 798.69(SiO) 470.11（SiOSi）
这是我们的样品测试的XRD谱图,我们不会解析,求助各位大侠.里面可能有二氧化硅,氧化铝,氧化铁等,求全分析.
Angle
Intensity %
d value
2-Theta °
%
Angstrom
7.094
18.7
12.44999
9.229
4.8
9.57488
14.145
32.7
6.25628
17.075
20.7
5.18864
18.582
19.4
4.77111
21.788
94.4
4.07586
22.962
38.5
3.87004
24.050
30.6
3.69728
25.929
34.0
3.43345
27.571
58.0
3.23267
29.545
100.0
3.02101
31.743
15.9
2.81663
33.030
12.8
2.70979
36.219
41.6
2.47816
39.521
28.0
2.27838
41.341
20.7
2.18220
43.097
44.9
2.09724
44.456
14.7
2.03626
47.628
31.1
1.90776
48.713
26.0
1.86779
54.498
33.9
1.68239
56.792
16.6
1.61977
57.6

答案

波数：3441.90 cm-1处出现的较宽的吸收峰,对应于-OH基的反对称伸缩振动和对称伸缩振动.1629.68(HOH).1103.05(SiO) cm-1处出现的强吸收谱带归属于Si-O-Si的反对称伸缩振动吸收.970.27(?),因为此区域处于指纹区,此峰不...