(7分)目前,计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅,生产高纯硅的主要原料是沙子(主要成分为SiO2)。二氧化硅既不溶于水,也不溶于一般的酸溶液
题型:不详难度:来源:
(7分)目前,计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅,生产高纯硅的主要原料是沙子(主要成分为SiO2)。二氧化硅既不溶于水,也不溶于一般的酸溶液。 工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下:
其主要反应原理为: ①SiO2+2CSi(粗)+2CO ②Si(粗)+2Cl2SiCl4 ③SiCl4+2H2Si(纯)+4HCl 请你根据上述材料,回答下列问题: (1)由沙子制得高纯硅的反应原理中,属于化合反应的是 (填数字代号,下同),属于置换反应的是 。 (2)由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行,除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外,还有一个原因是 。 (3)生产过程示意图中的“物质A”用水吸收,可得副产品(一种常见的酸)的名称是 。 (4)作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子,纯度要求高,需要对普通沙子(含有少量的CaCO3、Fe2O3)进行提纯,其中用酸洗(用盐酸)和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是 、 ;判断用高纯水洗是否洗净的方法是:取少量最后的洗涤液于试管中,向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸,若无 现象,则表明残留物已洗净;否则,表明残留物未洗净。 |
答案
(1)②;①、③(2)防止氢气与氧气混合发生爆炸 (3)盐酸 (4)CaCO3+2HCl=CaCl2+H2O+CO2↑;Fe2O3+6HCl=2FeCl3+3H2O白色沉淀 |
解析
试题分析:根据化学方程式判断化学反应基本类型,两种物质生成一种物质的反应属于化合反应,单质与化合物反应生成单质与化合物的额反应属于置换反应;氢气在氧气中燃烧可能发生爆炸,氯化氢气体溶于水成盐酸;盐酸与碳酸钙、氧化铁反应,写出相应的化学方程式即可;判断用高纯水洗是否洗净,就是要判断其中有无氯离子,滴加AgNO3溶液和稀硝酸,有白色沉淀说明有氯离子,无白色沉淀说明没有氯离子,表明残留物已洗净。 |
举一反三
某碳酸钠样品中含有少量氯化钠杂质,为测定该样品中碳酸钠的质量分数,小明与小东进行了如下实验:
请你回答下列问题: (1)操作A的名称是 ,在该操作中用到的玻璃仪器除烧杯外,还必需有 ;使用托盘天平进行称量前,应先检查 。 (2)在实验过程中加入饱和石灰水后发生反应的化学方程式是: 。 (3)为探究上述反应后滤液中的溶质成分,小东取出部分滤液,向滤液中滴加过量的稀盐酸,发现有气泡产生,则滴加盐酸前滤液中的溶质除氯化钠外还有(写出化学式) 、 ;滴加盐酸的过程中发生反应的化学方程式为 、 。 (4)在上面测定碳酸钠样品中碳酸钠的质量分数的实验中,他们测得的结果比实际结 果 (填“相等、偏大或偏小”)。 |
区别H2和CO,可采用的方法是 ①分别通到水中 ②分别点燃时,在火焰上方罩一个冷而干燥的烧杯 ③分别将燃烧产物通入石灰水中 ④分别与灼热的氧化铜反应并进一步检验生成物 |
已知:A是相对分子质量最小的氧化物,D是最简单的有机物,也是天然气中最主要的成分。请分析A、B、C、D、E五种物质之间的变化关系,回答有关问题。
(1)B与D反应时发出 火焰,其化学方程式为 。 (2)请写出A→B+C的化学方程式: ;该反应的基本类型是 。 |
要除去下列各组物质中的少量杂质,所选试剂和方法不可行的是
选项
| 物质
| 杂质
| 试剂、方法
| A
| Cu
| Fe
| 加入过量的稀盐酸、过滤、洗涤、干燥
| B
| MnO2
| 炭粉
| 在空气中灼烧
| C
| CO2
| CO
| 将气体点燃
| D
| FeSO4溶液
| CuSO4
| 加入足量铁屑,充分反应后过滤
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甲、乙、丙三种物质均含地壳中含量最多的元素。甲、乙是组成元素相同的化合物,丙是单质;甲、乙在常温下均为液体,在一定条件下均可分解成丙;它们之间有如图所示的转化关系(部分物质和反应条件已经略去)。则:甲的化学式为 ;丙转化成乙的化学方程式为 ;从微观的角度解释甲、乙性质有差异的原因是 。
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