下列应用不涉及氧化还原反应的是( )A.工业上利用N2和H2合成氨,实现人工固氮B.实验室用NH4Cl和Ca(0H)2制备NH3C.用FeCl3溶液作为“腐蚀
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下列应用不涉及氧化还原反应的是( )A.工业上利用N2和H2合成氨,实现人工固氮 | B.实验室用NH4Cl和Ca(0H)2制备NH3 | C.用FeCl3溶液作为“腐蚀液”刻蚀电路铜板 | D.用Na2O2作潜水艇的供氧剂 |
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答案
A.反应生成氨气时,N、H元素的化合价变化,发生氧化还原反应,故A不选; B.用NH4Cl和Ca(0H)2制备NH3,没有元素的化合价变化,不发生氧化还原反应,故B选; C.反应生成氯化铜和氯化亚铁,Fe、Cu元素的化合价变化,发生氧化还原反应,故C不选; D.用Na2O2作潜水艇的供氧剂,反应生成氧气,O元素的化合价变化,发生氧化还原反应,故D不选; 故选B. |
举一反三
实验室在配制FeSO4溶液时,为防止FeSO4被氧化而变质,常在溶液中加入少量的( ) |
某氧化还原反应可表示为:N2H5++4Fe3+→4Fe2++Y+…,若作为还原剂N2H5+只生成一种氧化产物,这唯一氧化产物是( ) |
下列反应中.属于氧化还原反应,但水既不作氧化剂也不作还原剂的是( )A.Cl2+H2O⇌HCl+HClO | B.SO2+H2O⇌H2SO3 | C.3Fe+4H2O(g)=Fe3O4+4H2 | D.2Na+2H2O=2NaOH+H2↑ |
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工业上粗硅的生产原理为2C+SiO2Si+2CO↑,其中SiO2是( )A.氧化剂 | B.还原剂 | C.既是氧化剂又是还原剂 | D.既不是氧化剂又不是还原剂 |
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下列反应中,一定属于氧化还原反应的是( )A.置换反应 | B.化合反应 | C.分解反应 | D.复分解反应 |
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