工业上用MnO2和KOH为原料制取高锰酸钾,主要生产过程分两步进行.第一步将MnO2和固体KOH粉碎,混合均匀,在空气中加热至熔化,并连续搅拌,制取K2MnO4
题型:不详难度:来源:
工业上用MnO2和KOH为原料制取高锰酸钾,主要生产过程分两步进行.第一步将MnO2和固体KOH粉碎,混合均匀,在空气中加热至熔化,并连续搅拌,制取K2MnO4;第二步将K2MnO4的浓溶液进行电解,制取KMnO4.试回答以下问题: (1)制取K2MnO4的MnO2是这一氧化还原反应的______剂(填“氧化”或“还原”),连续搅拌的目的是______. (2)电解K2MnO4的浓溶液时,两极发生的电极反应式为: 阴极是______, 阳极是______, 电解总的反应方程式是______. |
答案
(1)根据化合价变化,MnO2化合价有+4价被氧化成K2MnO4的+6价,化合价升高被氧化,作还原剂;将MnO2和固体KOH粉碎,混合均匀,在空气中加热至熔化,并连续搅拌,二氧化锰能够与空气充分接触,使MnO2氧化完全, 故答案为:还原剂;与空气充分接触,使MnO2氧化完全; (2)电解锰酸钾溶液时,阴极上水得电子生成氢气和氢氧根离子,电极反应为2H2O+2e-=H2↑+2OH-,阳极上锰酸根离子失电子生成高锰酸根离子,电极反应式为2MnO42--2e-=2MnO4-,总方程式为:2MnO42-+2H2O=2MnO4-+H2↑+2OH-, 故答案为:2H2O+2e-=H2↑+2OH-;MnO42--e-=MnO4-;2MnO42-+2H2O=2MnO4-+H2↑+2OH-. |
举一反三
(1)电解饱和食盐水可以制得烧碱、氯气和氢气,该反应的化学方程式为:______. (2)氯气用于生产半导体材料硅的流程如下:
(3)①石英砂的主要成分是______,在制备粗硅时,焦炭的作用是______. ②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为______. ③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式是:______. |
利用右图所示装置,当X、Y选用不同材料时,可将电解原理广泛应用于工业生
产。下列说法中正确的是
A.氯碱工业中,X、Y均为石墨,Y附近能得到氢氧化钠
| B.铜的精炼中,X是纯铜,Y是粗铜,Z是CuSO4
| C.电镀工业中,X是待镀金属,Y是镀层金属
| D.外加电流的阴极保护法中,Y是待保护金属 |
|
用Pt作电极,电解串联电路中分装在甲、乙两个烧杯中的200 mL0.3 mol/L NaCl的溶液和300 mL 0.2 mol/L的AgNO3溶液,当产生0.56L(标准状况)Cl2时停止电解,取出电极,将两烧杯溶液混合,混合液的pH为(假设:电解过程中电解产物不发生其他变化,混合后溶液的总体积为500ml。) |
现在工业上主要采用离子交换膜法电解饱和食盐水制取NaOH、H2和Cl 2。请回答下列问题: ⑴在电解过程中,与电源正极相连的电极上所发生的电极反应式为 。 ⑵电解之前,食盐水需要精制,目的是除去粗盐中的、Ca2+、Mg2+、SO42-等杂质离子,使用的试剂有:a.Na2CO3溶液,b.Ba(OH)2溶液,c.稀盐酸,其合理的加入顺序为(填试剂序号) 。 ⑶如果在容积为10L的离子交换膜电解槽中,1min后在阴极可产生11.2L(标准状况)Cl2,这时溶液的pH值是 (填“升高”、“降低”或“不变”),溶液中c(OH-)为(设体积保持不变) 。 ⑷若没有阳离子交换膜的存在,则电解饱和食盐水的化学方程式是 。 |
最新试题
热门考点