晶体硅是一种重要的非金属材料,在现代电子工业中具有非常重要的应用.工业上制备高纯硅的主要步骤如下:(1)下列有关硅及化合物的说法,正确的是______.A.石英
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晶体硅是一种重要的非金属材料,在现代电子工业中具有非常重要的应用.工业上制备高纯硅的主要步骤如下:(1)下列有关硅及化合物的说法,正确的是______.A.石英
题型:不详
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晶体硅是一种重要的非金属材料,在现代电子工业中具有非常重要的应用.工业上制备高纯硅的主要步骤如下:
(1)下列有关硅及化合物的说法,正确的是______.
A.石英的主要成分是SiO
2
B.太阳能电池使用单质硅做材料,其应用有利于环保、节能
C.粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D.玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
(2)SiCl
4
在室温下为无色液体,易挥发,粗硅与氯气反应得到的粗SiCl
4
中含有大量固体杂质,通过“操作A”提纯得到纯SiCl
4
,操作A的名称是______.
(3)整个制备过程必须严格控制无水无氧.H
2
还原SiCl
4
过程中发生的反应是:______在该过程中若有O
2
混入,可能引起的后果是______.
答案
(1)A、因石英的主要成分为SiO
2
,故A正确;
B、因硅可用来制电池的材料,这一应用有利于环保、节能,故B正确;
C.因粗硅制备高纯硅的过程中有两个反应为氧化还原反应:Si+2Cl
2
高温
.
SiCl
4
、SiCl
4
+2H
2
高温
.
Si+4HCl;故C错误;
D.因常见的硅酸盐材料有:玻璃、水泥、陶瓷,故D正确;
故答案为:ABD
(2)因SiCl
4
在室温下为无色液体,易挥发,粗SiCl
4
中含有大量固体杂质,可先对SiCl
4
进行汽化,然后进行液化达到分离的目的,故答案为:蒸馏(分馏、精馏均可)
(3)因SiCl
4
与H
2
反应可得高纯硅和气体,可知气体为HCl,故答案为:2H
2
+SiCl
4
高温
.
Si+4HCl,
因H
2
和O
2
混合容易发生爆炸,故答案为:引起爆炸.
举一反三
硅和硅的化合物在现代信息技术中应用广泛.其中,用于制造计算机芯片的材料是______,用于制造光导纤维的材料是______.
题型:不详
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信息高速公路的骨架是光导纤维,它的主要成分是( )
A.Si
B.SiO
2
C.H
2
SiO
3
D.Na
2
SiO
3
题型:不详
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|
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在无机非金属材料中,硅一直扮演着主要的角色.制备纯硅的主要步骤如下:①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl
3
:Si+3HCl
300℃
.
SiHCl
3
+H
2
;
③SiHCl
3
与过量H
2
在1000~1100℃反应制得纯硅;
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为______.
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl
3
(沸点33.0℃)中含有少量SiCl
4
(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl
3
采用的方法为:______.
(3)从基本反应类型角度分类,步骤③中发生的反应属于______.
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂是______(填写字母代号).
a.氯水 b.NaOH溶液 c.KSCN溶液 d.Na
2
SO
3
溶液.
题型:不详
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某氧化铝样品中含有氧化铁和二氧化硅(一种酸性氧化物)杂质,现欲制取纯净的氧化铝,某同学设计如下的实验方案.
回答下列问题:
(1)沉淀A的化学式是______,滤液B的成分除水外是______;
(2)步骤③的离子方程式为______;
(3)在操作②中要用到的玻璃仪器有______.
题型:不详
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下列叙述中,正确的是( )
A.高纯度硅是生产光导纤维的主要原料
B.工业上生产普通玻璃和水泥的都要用到石灰石
C.SiO
2
不溶于水,也不溶于任何酸
D.水玻璃的化学性质稳定,放置空气中不易变质
题型:不详
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