(3分)为了配制100 mL 1 mol/L NaOH 溶液,其中有下列几种操作,错误的操作是________ (填标号)。①选刚用蒸馏水洗净过的10
题型:不详难度:来源:
(3分)为了配制100 mL 1 mol/L NaOH 溶液,其中有下列几种操作,错误的操作是________ (填标号)。 ①选刚用蒸馏水洗净过的100 mL 容量瓶进行配制 ②NaOH 固体在烧杯里刚好完全溶解,立即把溶液转移到容量瓶中 ③用蒸馏水洗涤烧杯内壁两次,洗涤液都移入容量瓶中 ④使蒸馏水沿着玻璃棒注入容量瓶,直到溶液的凹液面恰好跟刻度相切 ⑤由于不慎,液面超过了容量瓶的刻度线,这时采取的措施是使用胶头滴管吸出超过的一部分 |
答案
② ④ ⑤ |
解析
氢氧化钠溶于水放出热量,应该冷却后在转移至容量瓶中,②不正确;当液面接近刻度线1~2cm时,应该用胶头滴管进行定容,④不正确;液面超过了容量瓶的刻度线,则实验失败,只能是重新配制,⑤不正确,其余都是正确的,答案选②④⑤。 |
举一反三
进行化学实验必须注意安全,下列操作不正确的是( )A.做CO还原CuO的实验时,尾气用点燃的方法除去 | B.实验室制备并用排水法收集氧气,实验结束时应先撤导管再熄灭酒精灯 | C.金属钠、钾起火,可用水、泡沫灭火器等灭火 | D.给试管中的液体加热时先预热并不时移动试管或加入碎瓷片,以免爆沸伤人 |
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(14分)单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。查阅相关资料获悉: a.四氯化硅遇水极易水解; b.铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物; c.有关物质的物理常数见下表:
物质
| SiCl4
| AlCl3
| FeCl3
| PCl5
| 沸点/℃
| 57.7
| —
| 315
| —
| 熔点/℃
| -70.0
| —
| —
| —
| 升华温度/℃
| —
| 180
| 300
| 162
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请回答下列问题: (1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。 (2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,含有铁、铝等元素的杂质。为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原反应滴定,锰元素被还原为Mn2+。 ①写出用KMnO4滴定Fe2+的离子方程式: ; ②滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),判断滴定终点的方法是 。 ③某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。若滴定前平视,滴定后俯视KMnO4液面,对测定结果有何影响 (填“偏高”、“偏低”、或“无影响”) |
下列叙述的实验能达到预期目的的是:
| 实验内容
| 实验目的
| A
| 在稀AgNO3溶液中加入少量NaCl溶液产生白色沉淀后再加入适量NaI溶液,出现黄色沉淀
| 说明Ksp(AgCl)>Ksp(AgI)
| B
| 分别向2支试管中加入等体积等浓度的Na2S2O3溶液,再向其中分别加入等体积不同浓度的H2SO4溶液
| 研究反应物浓度对化学反应速率的影响
| C
| 向混有亚硫酸钠的硫酸钠溶液中加入适量的BaCl2溶液
| 检验SO42-存在
| D
| 向沸腾的NaOH稀溶液中滴加FeCl3饱和溶液
| 制备Fe(OH)3胶体
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给150mL某液体加热的操作中,所需的仪器是 ①试管 ②烧杯③酒精灯 ④试管夹 ⑤石棉网 ⑥泥三角 ⑦坩埚 ⑧铁架台(带铁圈) |
关于下列各装置图的叙述中,不正确的是
A.装置①是把饱和食盐水中的食盐提取出来 | B.装置②用100mL量筒量取9.5mL液体 | C.装置③中X若为CCl4,可用于吸收NH3或HCl,并可防止倒吸 | D.装置④可用于收集NH3,并吸收多余的NH3 |
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