下列所列各组物质中,物质之间通过一步反应就能实现如图所示转化的是[     ]abcA.Al  AlCl3Al(OH)3B.HNO3  NONO2C.Si  S

下列所列各组物质中,物质之间通过一步反应就能实现如图所示转化的是[     ]abcA.Al  AlCl3Al(OH)3B.HNO3  NONO2C.Si  S

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下列所列各组物质中,物质之间通过一步反应就能实现如图所示转化的是
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答案
举一反三
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abc
A.Al  AlCl3Al(OH)3
B.HNO3  NONO2
C.Si  SiO2H2SiO3
D.CH2=CH2  CH3CH2OHCH3CHO
B
下列说法正确的是
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A.硅材料广泛用于光纤通讯
B.工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品
C.水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品
D.粗硅制备单晶硅不涉及氧化还原反应
X、Y、Z为短周期元素的单质,X、Y的组成元素为同主族元素,U、V为它们的 氧化物,这些物质之间的转化关系如下图所示,其中反应条件和某些产物已经略去。

(1)U是计算机长距离联网使用的传输速度快、信息量大的线路所使用材料的主要化学成分, U的名称是________________。这种材料埋在地下时,如果裸露在碱性土壤中,结果会短路,用离子方程式说明原因________________________________________。
(2)反应Ⅰ和Ⅲ的化学方程式分别为________________________________________________________;
_________________________________________________________________ 。
晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的反应中,焦炭的作用是________________________________ 。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):

①SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出反应的化学反应方程式_____________________________________________________________________ 。
②装置B中的试剂是______________________ 。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是__________________________________ 。
③反应一段时间后,装置D中观察到的现象是____________________________________________________________ ,发生反应的化学方程式为_____________________________________________________ 。装置D不能采用普通玻璃管的原因是______________________________ ,在还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是_______________________________________________________ 。
下表所列各组物质中,物质之间通过一步反应就能实现如图所示转化的是
 
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abc
A.AlAlCl3Al(OH)3
B.HNO3NONO2
C.SiSiO2H2SiO3
D.CH2=CH2CH3CH2OHCH3CHO
近日,“杭州创造”首届十大创新成就评选发布晚会上,浙江省富通集团光纤预制棒项目赢得十大创新成就殊荣。光纤预制棒是光缆生产的最“源头”项目,目前国内光缆生产厂家约200家,大部分靠买进口光纤预制棒来生产光缆。
(1)光纤预制棒的化学成分是___________,晶体类型为__________。
(2)如果把光缆裸露在碱性土壤中,结果会短路,用离子方程式说明原因__________________。
(3)下列说法正确的是_______
A、石英玻璃与普通玻璃都是硅酸盐制品
B、二氧化硅是良好半导体材料
C、工艺师用盐酸刻蚀石英制作艺术品
D、石英与二氧化碳化学键相同
(4)石英可以制备各种各样的陶瓷制品,如坩埚、蒸发皿、氮化硅高温结构陶瓷等。写出氮化硅的化学式__________,工业上用石英、焦碳、氮气制备氮化硅,写出反应方程式___________________。
(5)晶体硅是电子工业的重要材料,工业上大量的晶体硅是由石英为原料制备得到的。制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅。
其中用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源装置略去):
为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及 。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是:_______________。装置D中发生反应的化学方程式为____________________。