工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:(1)石英砂的主要成分是 (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是 。(2)制备三氯
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工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:(1)石英砂的主要成分是 (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是 。(2)制备三氯
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工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:
(1)石英砂的主要成分是
(填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是
。
(2)制备三氯氢硅的反应:
Si(s)+3HCl(g)
SiHCl3(g)+H2(g)
伴随的副反应为:
Si(s)+4HCl(g)
SiCl4(g)+2H2(g)
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体,工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为
;
写出SiHCl3(g)和HCl反应生成SiCl4(g)和H2的热化学方程式
。
(3)该生产工艺中可以循环使用的物质是
。
(4)实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图(热源及夹持装置略去).已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是
(填名称),装置C中的烧瓶需要加热,其目的是
。
②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后,再加热C、D装置的理由是
,装置D中发生反应的化学方程式为
。
答案
(1)
(1分) 还原剂(1分)
(2)蒸馏,(2分)
(2分)
(3)HCl和
(2分)
(4)①浓硫酸,(1分)使进入烧瓶的液态
变为气体。(1分)②让
排尽装置中的空气;(2分)
(2分)
解析
略
举一反三
下列物质不能与二氧化碳反应的是
A.NaHCO
3
溶液
B.Na
2
CO
3
溶液
C.CaCO
3
溶液
D.NaOH溶液
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CO
2
通入下列溶液中,不可能产生沉淀的是
A.饱和Na
2
CO
3
溶液
B.石灰水
C. Ba(OH)
2
溶液
D.CaCl
2
题型:不详
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光导纤维被广泛用于光缆通讯,其主要成分是
A.CuO
B.Fe
2
O
3
C.Al
2
O
3
D.SiO
2
题型:不详
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中国的瓷器驰名世界,英文的“中国”(China)一词又指“瓷器”,下列有关“陶瓷”叙述正确是
A.陶瓷现在才进入人类生活
B.陶瓷、玻璃、水泥等属于硅酸盐产品
C.陶瓷是纯净物
D.陶瓷不含硅元素
题型:不详
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光导纤维的主要成分是( )
A.Si
B.SiO
2
C.SiC
D.Na
2
SiO
3
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