工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:(1)石英砂的主要成分是        (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是        。(2)制备三氯

工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:(1)石英砂的主要成分是        (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是        。(2)制备三氯

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工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:

(1)石英砂的主要成分是        (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是        
(2)制备三氯氢硅的反应:
Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)
伴随的副反应为:        
Si(s)+4HCl(g) SiCl4(g)+2H2(g)
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体,工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
        
写出SiHCl3(g)和HCl反应生成SiCl4(g)和H2的热化学方程式        
(3)该生产工艺中可以循环使用的物质是        
(4)实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图(热源及夹持装置略去).已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是        (填名称),装置C中的烧瓶需要加热,其目的是         。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后,再加热C、D装置的理由是        ,装置D中发生反应的化学方程式为        
答案
(1)(1分)   还原剂(1分)
(2)蒸馏,(2分)  (2分)
(3)HCl和(2分)
(4)①浓硫酸,(1分)使进入烧瓶的液态变为气体。(1分)②让排尽装置中的空气;(2分)(2分)
解析

举一反三
下列物质不能与二氧化碳反应的是
A.NaHCO3溶液B.Na2CO3溶液C.CaCO3溶液D.NaOH溶液

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CO2通入下列溶液中,不可能产生沉淀的是
A.饱和Na2CO3溶液B.石灰水
C. Ba(OH)2溶液D.CaCl2

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光导纤维被广泛用于光缆通讯,其主要成分是
A.CuOB.Fe2O3C.Al2O3D.SiO2

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中国的瓷器驰名世界,英文的“中国”(China)一词又指“瓷器”,下列有关“陶瓷”叙述正确是
A.陶瓷现在才进入人类生活B.陶瓷、玻璃、水泥等属于硅酸盐产品
C.陶瓷是纯净物D.陶瓷不含硅元素

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光导纤维的主要成分是(     )
A.SiB.SiO2C.SiCD.Na2SiO3

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