（16分）卤块的主要成分是MgCl2，此外还含有少量的Fe3＋、Fe2＋和Mn2＋等离子。以卤块为原料制取轻质氧化镁工艺以及相关数据如下：常温下生成氢氧化物沉淀

题型：不详难度：来源：

（16分）卤块的主要成分是MgCl₂，此外还含有少量的Fe^3＋、Fe^2＋和Mn^2＋等离子。以卤块为原料制取轻质氧化镁工艺以及相关数据如下：

常温下生成氢氧化物沉淀的pH数据：

物 质	开始沉淀时的pH	沉淀完全时的pH
Fe(OH)3	2.7	3.7
Fe(OH)2	7.6	9.6
Mn(OH)2	8.3	9.8
Mg(OH)2	9.6	11.1

回答下列问题：
（1）加入NaClO后产生少量红褐色沉淀。写出加入NaClO后发生的离子反应方程式：_____________________。
（2）为尽量除去杂质，用NaOH调节pH。当溶液pH为________  时，停止加入NaOH。
（3）流程图中操作X是_______________。
（4）加入Na₂CO₃后，加水煮沸的化学方程式为_________________________________。向除去Fe^3＋、Fe^2＋和Mn^2＋等离子后的滤液中改加Na₂CO₃，而不继续加入NaOH，你认为可能的原因是___________________ __                                  。

答案

（1）3ClO^－＋6Fe^2＋＋3H₂O＝2Fe(OH)₃↓＋4Fe^3＋＋3Cl^－  （4分）
（2）9.8 （3分）
（3）过滤洗涤灼烧 （3分）
（4）MgCO₃＋H₂OMg(OH)₂＋CO₂↑（3分）使用NaOH的生产成本大（3分）

解析

略