磁材氧化铁的化学名称是氧化铁(Fe2O3),它是电子、电信工业的磁性材料,工业上采用生产钛白粉的下脚料(含大量FeSO4溶液)制备磁材氧化铁的步骤如下: ①向下

磁材氧化铁的化学名称是氧化铁(Fe2O3),它是电子、电信工业的磁性材料,工业上采用生产钛白粉的下脚料(含大量FeSO4溶液)制备磁材氧化铁的步骤如下: ①向下

题型:不详难度:来源:
磁材氧化铁的化学名称是氧化铁(Fe2O3),它是电子、电信工业的磁性材料,工业上采用生产钛白粉的下脚料(含大量FeSO4溶液)制备磁材氧化铁的步骤如下:

①向下脚料(含大量FeSO4溶液)中加入少量2 mo1·L-1叫H2SO4和铁皮;
②向①中所得溶液中加絮凝剂和水,经过滤除去吸附了杂质的絮凝剂;
③将②所得的滤液浓缩结晶得到晶体A;
④将晶体A溶于水,并加入NH4HCO3,产生CO2气体同时得到FeCO3沉淀和无色溶液C;
⑤将FeCO3沉淀洗涤、烘干并煅烧。(煅烧中的变化为:FeCO3="FeO+CO2↑; " 4FeO+O2="2" Fe2O3)
据上述信息回答下列问题:
(1)用18.4mo1·L-1的H2SO4配制500mL 2 mo1·L-1H2SO4,所需玻璃仪器除
         mL量筒、玻璃棒、烧杯、500mI。容量瓶外,还需要        
(2)步骤①中2 mo1·L-1H2SO4和铁皮的作用分别为        
(3)晶体A的化学式为        ,检验溶液C中溶质阳离子的方法是        
(4)向溶液C中加入CaCl2溶液能得到CaSO4沉淀,常温下KSP(CaSO4)=9x10-6,常温下CaSO4在水中的沉淀溶解平衡曲线如图所示。
①a点对应的KSP        c点对应的KSP填“大于”、“小于”或“等于”);
②若由b点变到a点下列措施可行的是         。
A.加入适量CaCl2B.加入适量BaCl2.
C.加人适量Na2SO4D.蒸发

答案
(1)100,(2分)胶头滴管(1分) (2)加2mol·防止Fe发生水解,(1分) 加铁皮防止Fe被氧化(1分)   (3),(1分)取该溶液少许加入氢氧化钠溶液并加热,若产生能使湿润的红色石蕊试纸变蓝的气体,证明该溶液的阳离子为。(3分) (4)等于,(2分)  A、B。(2分)
解析

举一反三
下列物质与铁反应的生成物,能与KSCN 溶液反应生成红色溶液的是
A.盐酸B.稀硫酸C.氯气D.硫酸铜溶液

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要除去氯化铁中少量的氯化亚铁,可行的是
A.通入氯气B.滴入KSCN 溶液C.加入铜粉D.加入铁粉

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(本题6分)
⑴电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板。
①检验溶液中Fe3+存在的试剂是          __,证明Fe3+存在的现象是          __。]②写出FeCl3溶液与金属铜发生反应的化学方程式:                          
⑵ 3Cl2  + 6NaOH  ="= " 5NaCl + NaClO+ 3H2O
氧化剂与还原剂的物质的量之比为        ,氧化产物是          ________
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(12分)A、B、C、D四种物质都含有一种共同的元素,A是常见的金属,C的溶液呈现黄色,A、B、C、D之间有如下所示转化关系。

试回答下列问题:
(1)A是                    ,C是                        
(2)C的溶液与NaOH溶液混合后的现象是                              。
(3)反应①的反应类型是        反应(选填“化合”“分解”“置换”“复分解”)。
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(一)含铜物质是化学中的重要试剂。例如利用新制氢氧化铜悬浊液验证葡萄糖的还原性。
新制氢氧化铜悬浊液的配制与应用:
(1)实验室制取新制氢氧化铜悬浊液的操作方法:在试管里加入10%的________溶液2mL,滴入2%的_________溶液4~6滴(以上选填“硫酸铜”或“氢氧化钠”),振荡即成。这样操作的目的_______________________________________________。
(2)下列各组物质的溶液仅用新制的氢氧化铜悬浊液(必要时可以加热)不能检验出来的是______。
A.HCOOCH3,C6H5COOH,C6H5CH2OH
B.NaHSO4,BaCl2,Na2CO3,酚酞
C.HCOOH,HCOONa,HCOOCH2CH3
D.葡萄糖,CH2OHCHOHCH2OH
(二)下图是某同学在实验室中制取Cl2的装置图:

(1)该装置中的错误之处有二,分别是:
                                                   
                                                   
(2)试写出装置A和C中发生反应的离子方程式:
A处:                                                         ;C处:                                                         
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