氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是（）A．①③是置换反应，②是化合反应B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅的C

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氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是（）

A．①③是置换反应，②是化合反应

B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅的

C．任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移4 mol电子

D．高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅

答案

解析

在高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合，则石英砂与焦炭反应，氯气与氢气反应，就不再按照题***流程进行，不会得到高纯硅。

举一反三

青石棉(crocidolite)是一种致癌物质，是《鹿特丹公约》中受限制的46种化学品之一，其化学式为Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂。青石棉用稀硝酸溶液处理时，还原产物只有NO，下列说法不正确的是（）

A．青石棉是一种硅酸盐产品

B．青石棉中含有一定量的石英晶体

C．青石棉的化学组成可表示为：Na₂O·3FeO·Fe₂O₃·8SiO₂·H₂O

D．1 mol青石棉能使1 mol HNO₃被还原

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在下列物质的转化关系中，A是一种固体单质，且常作半导体材料，E是一种白色沉淀，F是最轻的气体单质。

据此填写：(1)B的化学式是       ，目前在现代通讯方面B已被用作       的主要原料。
(2)B和a溶液反应的离子方程式是                                    。
(3)A和a溶液反应的离子方程式是                                  。
(4)C和过量盐酸反应的离子方程式是                               。

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含A元素的一种单质是一种重要的半导体材料，含A元素的一种化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料——光导纤维，C与烧碱反应生成含A元素的化合物D。
(1)在元素周期表中，A位于       族，与A同族但相对原子质量比A小的元素B的原子结构示意图为       ，A与B在原子的电子层结构上的相同点是                       。
(2)易与C发生化学反应的酸是       ，反应的化学方程式是                         。
(3)将C与纯碱混合高温熔融时也发生化学反应生成D，同时还生成B的最高价氧化物E；将全部的E与全部的D在足量的水中混合后，又发生化学反应生成含A的化合物F。
①写出生成D和F的化学反应方程式：                                 。
②要将纯碱高温熔化，下列坩埚中可选用的是       。
A．普通玻璃坩埚      B．石英玻璃坩埚
C．氧化铝坩锅        D．铁坩锅
(4)100 g C与石灰石的混合物充分反应后，生成的气体在标准状况下的体积为11.2 L,100 g混合物中石灰石的质量分数是                                        。

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为了证明一氧化碳具有还原性，有人设计了下列实验：

(1)装置B中最适宜的试剂是                                         。
(2)装置D中发生反应的化学方程式是                                ，                                 。
(3)必须用装置C吸收除去气体中水蒸气的理由是                        ，                                  。
(4)若根据F中石灰水变浑浊的现象也能确定CO具有还原性，应在上图中装置       与      之间连接下列装置中的       (填序号)。

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氮化硅可用作高温陶瓷复合材料，在航空航天、汽车发动机、机械等领域有着广泛的应用。由石英砂合成氮化硅粉末的路线如下图所示：

其中－NH₂中各元素的化合价与NH₃相同。请回答下列问题：
(1)石英砂不能与碱性物质共同存放，以NaOH为例，用化学反应方程式表示其原因：                                                             。
(2)图示①～⑤的变化中，属于氧化还原反应的是                         。(3)SiCl₄在潮湿的空气中剧烈水解，产生白雾，军事工业中用于制造烟雾剂。SiCl₄水解的化学反应方程式为                                              。
(4)在反应⑤中，3 mol Si(NH₂)₄，在高温下加热可得1 mol氮化硅粉末和8 mol A气体，则氮化硅的化学式为                                            。
(5)在高温下将SiCl₄在B和C两种气体的气氛中，也能反应生成氮化硅，B和C两种气体在一定条件下化合生成A。写出SiCl₄与B和C两种气体反应的化学方程式                     。

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氯气用途十分广泛，可用于生产半导体材料硅，其生产的流程如下，下列说法不正确的是（ ）A．①③是置换反应，②是化合反应B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅的C