半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol，            

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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol，            

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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol，
                                                 （石英砂）     （粗硅）
Si（s）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/mol，SiCl4（g）+2Mg（s）═2MgCl2（s）+Si（s），△H=-625.63kJ/mol
（粗硅）                                                          （纯硅）
，生产1.00kg纯硅的总反应热为（　　）
A．2.43×104kJB．-2.35×104kJ
C．-2.23×104kJD．-2.14×104kJ
答案
举一反三
在一定条件下，CO和CH4燃烧的热化学方程式分别为
2CO（g）+O2（g）═2CO2（g）△H=-566kJ-mol-1
CH4（g）+2O2（g）═CO2（g）+2H2O（l）△H=-890kJ-mol-1
由1mol CO（g）和3mol CH4（g）组成的混合气体在上述条件下充分燃烧，恢复至室温释放的热量为（　　）
A．2912kJB．2953kJC．3236kJD．3867kJ
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在同温同压下，下列各组热化学方程式中，Q2＞Q1的是（　　）
A．2H2（气）+O2（气）=2H2O（气）+Q1 2H2（气）+O2（气）=2H2O（液）+Q2
B．S（气）+O2（气）=SO2（气）+Q1 S（固）+O2（气）=SO2（气）+Q2
C．C（固）+
1
2
O2（气）=CO（气）+Q1 C（固）+O2（气）=CO2（气）+Q2
D．H2（气）+Cl2（气）=2HCl（气）+Q1
1
2
H2（气）+
1
2
Cl2（气）=HCl（气）+Q2
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在相同的条件下，一定量的氢气在氧气中充分燃烧并放出热量．若生成液态水放出的热量为Q1，kJ；若生成气态水放出的热量为Q2kJ．那么Q1与Q2之间的关系是（　　）
A．Q1＞Q2B．Q1＜Q2C．Q1=Q2D．不能确定
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充分燃烧一定量的丁烷（C4H10）放出热量为Q，经测定完全吸收它生成的CO2需要消耗5mol/LKOH溶液100ml，恰好生成正盐．则燃烧1mol丁烷放出的热量为（　　）
A．4QB．5QC．8QD．16Q
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已知1mol CO气体完全燃烧生成CO2气体放出283KJ热量；1mol H2完全燃烧生成液态水放出286KJ热量；1mol CH4气体完全燃烧生成CO2气体和液态水放出890KJ热量．
（1）若1mol CH4气体完全燃烧生成CO2气体和水蒸气，放出的热量______890KJ．
（填“＞”、“＜”或“=”）
（2）若将n mol CH4、CO和H2的混合气体完全燃烧，生成CO2气体和液态水，则放出热量（Q）的取值范围是______．
（3）若将a mol CH4、CO和H2的混合气体完全燃烧，生成CO2气体和液态水，且CO2气体和水的物质的量相等时，则放出热量（Q）的取值范围是______．
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