下列说法正确的是A.自然界中含有大量的游离态的硅,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片B.金属铝、铁、铜都有一定的抗腐蚀性能,其抗腐蚀的原因都是表面形成氧化物薄膜,
题型:不详难度:来源:
下列说法正确的是A.自然界中含有大量的游离态的硅,纯净的硅晶体可用于制作计算机芯片 | B.金属铝、铁、铜都有一定的抗腐蚀性能,其抗腐蚀的原因都是表面形成氧化物薄膜,阻止反应的进一步进行 | C.工业上通常用电解钠、铁、铜对应的氯化物制得该三种金属单质 | D.Si、P、S、Cl相应的最高价氧化物对应水化物的酸性依次增强 |
|
答案
D |
解析
试题分析:A、自然界中含有大量的化合态的硅,无游离态硅,错误;B、铝抗腐蚀的原因是铝在空气中表面形成氧化物薄膜,阻止反应的进一步进行,而铁、铜易被腐蚀,错误;C、铁、铜单质的获得通常是用还原法或热分解法得到,不是电解其氯化物,错误;D、Si、P、S、Cl位于元素周期表的同一周期,从左到右,元素的非金属性逐渐增强,所以相应的最高价氧化物对应水化物的酸性依次增强,增强,答案选D。 |
举一反三
利用下列图表中的实验装置和试剂,能得出正确实验结论的是
|
(本题16分)工业上用白云石制备高纯氧化镁的工艺流程如下:
已知Ⅰ.白云石主要成分可表示为:CaO 32.50%;MgO 20.58%;Fe2O3 2.18%;SiO2 0.96%;其他 43.78%。 (1)为了提高白云石的煅烧效果,可以采取的措施是将矿石 。若在实验室中煅烧白云石,需要的仪器除酒精灯、三脚架以外,还需要 (填序号)。 A.蒸发皿 B.坩埚 C.泥三角 D.石棉网 (2)加入H2SO4控制pH时,终点pH对产品的影响如图8所示。则由图示可得到的结论及原因是:
①pH过高会导致___________________________下降,其原因是_______________________ ②pH过低会引起____________________________ ,其原因可能是__________(填序号) A.Fe2O3溶于H2SO4最终使产品混有杂质 B.SiO2溶于H2SO4最终使产品混有杂质 C.酸性过强,形成可溶的Ca(HSO4)2,最终使产品混有含钙的杂质 (3)已知MgSO4、CaSO4的溶解度如下表:
温度(℃)
| 40
| 50
| 60
| 70
| MgSO4
| 30.9
| 33.4
| 35.6
| 36.9
| CaSO4
| 0.210
| 0.207
| 0.201
| 0.193
| 根据上表数据,简要说明析出CaSO4.2H2O的操作步骤是 、 。 (4)写出沉淀反应中的离子方程式: 。 (5)该生产流程中还可得到的一种副产品是_______________。 (6)已知酸碱指示剂百里酚蓝变色的pH范围如表所示:25℃时, 向Mg(OH)2的饱和溶液中滴加2滴百里酚蓝指示剂,溶液所呈现的 颜色为 (25℃时,Mg(OH)2的溶度积Ksp=5.6×10-12)。
pH
| < 8.0
| 8.0 ~ 9.6
| > 9.6
| 颜色
| 黄色
| 绿色
| 蓝色
| |
下列说法正确的是( )A.铝合金的熔点比纯铝高 | B.电解MgCl2溶液可获得金属镁 | C.水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅酸盐制品 | D.铜具有良好的导电性,常用来制作印刷电路板 |
|
下列有关金属及其化合物的说法错误的是A.铁与水蒸气在高温条件下反应生成四氧化三铁和氢气 | B.稀硫酸中加入铜粉不反应,再加入硝酸钠仍不反应 | C.AlCl3、FeCl2、CuCl2均可通过化合反应制得 | D.饱和碳酸钠溶液中通人足量二氧化碳,溶液变浑浊 |
|
下列反应所得溶液中只含一种溶质的是A.A1Cl3溶液中滴入过量NaOH溶液 | B.Fe2(SO4)3溶液中加入过量铁粉 | C.稀HNO3中加入少量铜片 | D.Ca(ClO)2溶液中通入过量CO2 |
|
最新试题
热门考点