室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（　　）A．F2B．HFC．KOH溶液D．Cl2

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室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（　　）

A．F₂

B．HF

C．KOH溶液

D．Cl₂

答案

A、硅和F₂在常温下发生反应：Si+2F₂═SiF₄，故A正确；
B、硅和HF在常温下发生反应：Si+4HF═SiF₄↑+2H₂↑，故B正确
C、硅和KOH溶液在常温下发生反应：Si+2OH^-+H₂O═SiO₃^2-+2H₂↑，故C正确；
D、硅和Cl₂在高温下发生反应：Si+2Cl₂

高温

SiCl₄，室温下，不反应，故D错误；
故选D．

举一反三

晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：

魔方格

（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO₂
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl₄在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl₄中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl₄，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H₂还原SiCl₄过程中发生的反应是：______在该过程中若有O₂混入，可能引起的后果是______．

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硅和硅的化合物在现代信息技术中应用广泛．其中，用于制造计算机芯片的材料是______，用于制造光导纤维的材料是______．

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信息高速公路的骨架是光导纤维，它的主要成分是（　　）

A．Si

B．SiO₂

C．H₂SiO₃

D．Na₂SiO₃

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在无机非金属材料中，硅一直扮演着主要的角色．制备纯硅的主要步骤如下：①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl₃：Si+3HCl

300℃

SiHCl₃+H₂；
③SiHCl₃与过量H₂在1000～1100℃反应制得纯硅；
请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为______．
（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl₃（沸点33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸点57.6℃）和HCl（沸点-84.7℃），提纯SiHCl₃采用的方法为：______．
（3）从基本反应类型角度分类，步骤③中发生的反应属于______．
（4）为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是______（填写字母代号）．
a．氯水 b．NaOH溶液 c．KSCN溶液 d．Na₂SO₃溶液．

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某氧化铝样品中含有氧化铁和二氧化硅（一种酸性氧化物）杂质，现欲制取纯净的氧化铝，某同学设计如下的实验方案．

魔方格

回答下列问题：
（1）沉淀A的化学式是______，滤液B的成分除水外是______；
（2）步骤③的离子方程式为______；
（3）在操作②中要用到的玻璃仪器有______．

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室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（ ）A．F2B．HFC．KOH溶液D．Cl2