四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：SiCl4＋2H24HCl＋Si下列说法不合理的是A．反应制得的硅可用于制造半导体材料B．

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四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl₄＋2H₂

4HCl＋Si
下列说法不合理的是

A．反应制得的硅可用于制造半导体材料

B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率

C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得

D．混入少量空气对上述反应无影响

答案

解析

试题分析：所给的反应是工业上提炼高纯度硅的关键反应，A说法合理；增大压强对于有气体参加的反应能加快反应速率，B说法合理；C说法正确；混入空气后硅和氧气反应使所得产物含有二氧化硅而不纯，D说法错误。
点评：熟悉工业上制备高纯硅的化学反应原理和技术问题

举一反三

在一定温度下，冰醋酸加水稀释的过程中，溶液的导电能力如图1-14-1所示，请回答：
（1）“0”点导电能力为0的理由______。
（2）a，b，c三点溶液的pH值由小到大的顺序为______。
（3）a，b，c三点中电离度最大的是：______。
（4）若使c点溶液中[CH₃COO^-]增大，溶液的pH值也增大，可采取的措施为：
①______；②______；③______。

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向某密闭容器中充入1molCO和2molH₂O（g），发生反应：CO+H₂O （g）

CO₂ +H₂。当反应达到平衡时，CO的体积分数为x。若维持容器的体积和温度不变，起始物质按下列四种配比充入该容器中，达到平衡时CO的体积分数大于x的是

A．0.5molCO+2molH₂O（g）+1molCO₂+1molH₂

B．1molCO+1molH₂O（g）+1molCO₂+1molH₂

C．0.5molCO+1.5molH₂O（g）+0.4molCO₂+0.4molH₂

D．0.5molCO+1.5molH₂O（g）+0.5molCO₂+0.5molH₂

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(共12分)
（1）在某容积不变的密闭容器中，有可逆反应：mA（g）+nB（g）

pC（g）+qD（S）△H＜0如图某反应过程中各物质物质的量n（mol）随时间t的变化曲线图。

①该反应的平衡常数表达式为（各物质浓度的指数用数值表示）：   。
②若充入A，K值   （填一定增大、一定减小、或可能增大也可能减小、不变）；正反应速率____（填增大、减小、不变）。
③若体积为10升的密闭容器中，500℃、有催化剂存在的条件下，根据图示回答下列问题：在0～15min内的平均反应速率：v（B）=
（2）对于某可逆反应：A（g）+B（g）

2C（g） △H＜0。若该反应的正反应速率与时间的关系如图所示。在其它条件不变的情况下，请填空：

①写出t₂时改变的条件可能是：       （用文字表达）；
②t₄时改交的条件可能是    （用编号表示，多选扣分）
A．增大压强          B．减小压强
C．使用催化剂         D．升高温度
E．增大A的浓度

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室温下,将 4 mol A 气体和 2 mol B 气体在 2 L 的密闭容器中混合并在一定条件下发生如下反应：2A（气）＋B（气）

XC（气），经 2 s（秒）后反应达平衡,测得 C 的浓度为 0.6 mol·L^－¹，B的物质的量为1.4 mol,现有下列几种说法：
①用物质 A 表示的反应的平均速率为 0.3 mol·L^－¹·s^－¹
②反应前容器内的压强与平衡后容器内的压强之比为1:1
③ 2 s 时物质A的转化率为30％
④ X="2"
⑤室温下该反应的化学反应平衡常数是0.5
⑥其他条件不变，向容器中再加入1 molC气体，达到新平衡时，C的体积分数不变
其中正确的是（）

A．①③④

B．①④⑥

C．②③⑤

D．③⑤⑥

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已知常温常压下， N≡N键的键能是946 KJ/mol 、N-H键的键能是391 KJ/mol、H-H 键的键能是436KJ/mol 。现有甲、乙两个容积相同的定容密闭容器，在常温下：①向密闭容器甲中通入1 mol N₂和3 mol H₂，达到平衡时放出热量Q₁kJ。②向密闭容器乙中通入0.5 mol N₂和1.5 mol H₂，达到平衡时放出热量Q₂ kJ。则下列关系式正确的是（）

A．92＞Q_l＞2Q₂

B．92＝Q₁＜2Q₂

C．Q₁＝2Q₂＝92

D．Q₁＝2Q₂＜92

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