(18分)近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl—H2O2)、碱性的(NH3—NH4Cl)以及传统的
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(18分)近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl—H2O2)、碱性的(NH3—NH4Cl)以及传统的(HCl—FeCl3)等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下:
⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还 有 ▲ 、 ▲ 。(用离子方程式表示)。 ⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为: ▲ 。 ⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中,加入的试剂A的最佳选择是下列中的 ▲ (填序号) ①酸性KMnO4溶液 ②NaCl(固) ③葡萄糖 ④甲醛 ⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是 ▲ 。 ⑸ 碱性蚀刻液发生的化学反应是:2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O,处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是 ▲ 。 |
答案
.⑴ Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl- ⑵ Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O ⑶ ③ ⑷ 温度高会使产物部分分解产生黑色的氧化铜导致产品颜色发暗 ⑸ 促使溶液中Cu(NH3)4Cl2结晶析出 |
解析
略 |
举一反三
(8分)工业上常用废铁屑溶于一定浓度的硫酸溶液制备绿矾( FeSO4·7H2O )。 ⑴若用98% 1.84 g/cm3的浓硫酸配制生产用28%的硫酸溶液,则浓硫酸与水的体积比约为1: ▲ 。 ⑵为测定某久置于空气的绿矾样品中Fe2+的氧化率,某同学设计如下实验:取一定量的样品溶于足量的稀硫酸中,然后加入5.00 g铁粉充分反应,收集到224 mL(标准状况)气体,剩余固体质量为3.88 g,测得反应后的溶液中Fe2+的物质的量为0.14 mol(不含Fe3+)。则该样品中Fe2+离子的氧化率为 ▲ 。 ⑶硫酸亚铁铵[(NH4)2SO4·FeSO4·6H2O](俗称莫尔盐),较绿矾稳定,在氧化还原滴定分析中常用来配制Fe2+的标准溶液。现取0.4 g Cu2S和CuS的混合物在酸性溶液中用40 mL 0.150 mol/L KMnO4溶液处理,发生反应如下: 8MnO4-+5Cu2S+44H+=10Cu2++5SO2+8Mn2++22H2O 6MnO4-+5CuS+28H+=5Cu2++5SO2+6Mn2++14H2O 反应后煮沸溶液,赶尽SO2,剩余的KMnO4恰好与V mL 0.2 mol/L (NH4)2Fe(SO4)2溶液完全反应。已知:MnO4-+Fe2++H+——Mn2++Fe3++H2O(未配平) ①V的取值范围为 ▲ ; ②若V=35,试计算混合物中CuS的质量分数。 |
除去铜粉中的氧化铜,方法正确的是
A.在空气中加热 | B.加入足量的水,充分搅拌后过滤
| C.加入足量的NaOH溶液,充分反应后过滤 | D.加入足量的盐酸,充分反应后过滤 |
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常温下,将铁片放入下列溶液中,能观察到有大量气泡产生的是
A.浓硫酸 | B.稀硫酸 | C.氢氧化钠溶液 | D.硫酸铜溶液 |
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在pH为4-5的环境中,Cu2+和Fe2+不水解,而Fe3+几乎完全水解。工业上制CuCl2是将浓盐酸用蒸汽加热到80℃左右。在慢慢加入粗氧化铜(含杂质FeO),充分搅拌使之溶解。欲除去所得CuCl2溶液中的杂质离子,下列方法中可行的是A.加入HNO3将Fe2+氧化成Fe3+,再加水稀释至pH4-5 | B.向溶液中通入Cl2,再加入CuO粉末调节至pH4-5 | C.向溶液中通入Cl2,在通入NH3调节至pH4-5 | D.向溶液中通入H2O2, 再加入CuO粉末调节至pH4-5 |
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将Fe、Cu、Fe2+、Fe3+和Cu2+盛于同一容器中充分反应,反应后Fe有剩余,则容器中其它存在的单质或离子只能是A.Cu、Fe3+ | B.Fe2+、Fe3+ | C.Cu、Cu2+ | D.Cu、Fe2+ |
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